Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your
feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
用于亚 100 nm 纳米图案化的先进非常规技术
InfoMat ( IF 22.7 ) Pub Date : 2022-05-18 , DOI: 10.1002/inf2.12323 Mengmeng Guo 1 , Zhiyuan Qu 1 , Fanyi Min 1 , Zheng Li 2 , Yali Qiao 1 , Yanlin Song 1
InfoMat ( IF 22.7 ) Pub Date : 2022-05-18 , DOI: 10.1002/inf2.12323 Mengmeng Guo 1 , Zhiyuan Qu 1 , Fanyi Min 1 , Zheng Li 2 , Yali Qiao 1 , Yanlin Song 1
Affiliation
|
具有超小特征的图案化纳米结构赋予功能器件独特的纳米限制和性能增强。对小型化的日益增长的需求刺激了亚 100 nm 纳米图案技术的发展。除了受不可避免因素限制的传统光刻技术之外，据报道，先进的图案化技术可以产生低至分子甚至原子尺度的纳米级特征。在这篇综述中，讨论了用于亚 100 nm 纳米图案的非常规技术，特别是实现所需图案的原理（以及其他重要问题）。这种技术可以分为三类：模板复制、模板诱导和无模板技术。此外，多维纳米结构由各种建筑材料组成，总结了其独特的属性。最后，讨论了大规模图案化的剩余挑战和机遇、器件性能的改进、生物相容材料的多维纳米结构、分子尺度的图案化以及未来纳米制造工艺的碳足迹要求。
"点击查看英文标题和摘要"
更新日期：2022-05-18
"点击查看英文标题和摘要"
京公网安备 11010802027423号