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氧化铪 (HfO2) – 一种多功能氧化物：氧化铪在电阻开关和铁电存储器中的前景和挑战综述
Small ( IF 13.0 ) Pub Date : 2022-05-05 , DOI: 10.1002/smll.202107575 Writam Banerjee 1 , Alireza Kashir 2 , Stanislav Kamba 2
Small ( IF 13.0 ) Pub Date : 2022-05-05 , DOI: 10.1002/smll.202107575 Writam Banerjee 1 , Alireza Kashir 2 , Stanislav Kamba 2
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氧化铪 (HfO 2 ) 是成熟的高 k 电介质之一，在过去的二十年中一直在存储领域占据强势地位。其介电特性已被严格研究以用于闪存设备的开发。在这篇综述中，综述了 HfO 2在两种主要的新兴非易失性存储器技术中的应用，即电阻式随机存取存储器和铁电存储器。讨论了 HfO 2的特性如何使前者实现具有高速可靠开关、出色耐用性和保持力的最佳性能。进一步讨论了控制 HfO 2畴的参数，这可以在存储器应用中释放铁电特性。最后，HfO的前景研究了高密度存储器和神经形态器件等新兴应用中的2种材料，并对基于 HfO 2的电阻式随机存取存储器和铁电存储器器件的各种挑战进行了展望。
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更新日期：2022-05-05
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