XPS、UV-Vis、XRD 和 PL 光谱学用于研究镍纳米粒子定位对纳米复合薄膜性能的影响,Journal of Applied Polymer Science

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XPS、UV-Vis、XRD 和 PL 光谱学用于研究镍纳米粒子定位对纳米复合薄膜性能的影响
Journal of Applied Polymer Science ( IF 2.7 ) Pub Date : 2022-04-26 , DOI: 10.1002/app.52433
Inshad Jum'h ₁ , Ahmad Telfah ₂ , Marwan S. Mousa ₃ , Mais Jamil A. Ahmad _{2,

4} , Carlos J. Tavares ₅ , Roland Hergenröder ₂

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这项工作通过使用超均匀磁场作为在聚合物基质内定位磁性纳米粒子的模型，研究了定位镍纳米粒子 (Ni-NPs) 对掺杂 (P84-PEO) 纳米复合薄膜表面的影响。该过程用于实现所需的和可调节的光电特性，并获得新的光学和电学特性。在制备过程中，掺杂有 Ni-NPs 的 P84-PEO 共聚物暴露在 450 mT 的磁场中，除了在表面形成 Ni 氧化物外，还会显着增加表面粗糙度、表面反应性和改进的光学参数。基于 X 射线光电子能谱实验，O1s 和 C1s 核心能级的光激发电子的结合能发生了显着的额外变化。此外，解卷积的 O1s 光谱在 530.0 eV 处显示了一个额外的光电子峰，这很可能归因于表面氧化的 Ni-NP。此外，使用 UV-Vis 和 PL 光谱以及 X 射线衍射研究了光学和结构特性。

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更新日期：2022-04-26

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