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铝上水合氧化铝薄膜结构和阴离子掺入性能的拉曼和辉光放电发射光谱研究
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 2022-04-05 , DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.153321 Tatsuyuki Takano 1 , Hisato Matsuya 2 , Damian Kowalski 2 , Sho Kitano 2 , Yoshitaka Aoki 2 , Hiroki Habazaki 2
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更新日期:2022-04-05
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 2022-04-05 , DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.153321 Tatsuyuki Takano 1 , Hisato Matsuya 2 , Damian Kowalski 2 , Sho Kitano 2 , Yoshitaka Aoki 2 , Hiroki Habazaki 2
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铝在热水中的水化处理对其防腐蚀很重要,也是铝电解电容器铝阳极上形成介电结晶氧化铝膜的关键预处理。在这项研究中,结合辉光放电 (GD) 溅射和拉曼光谱对通过热水处理在高纯度铝上形成的两层水合膜进行了检测。此外,还研究了在几种电解液中阳极化铝过程中阴离子通过水合氧化铝层的渗透行为。结果表明,具有纳米片状形态的外层由结晶假勃姆石相组成,而相对致密的内层是无定形的或结晶性差的。内部无定形层在阴离子的掺入中起着至关重要的作用,这是首次发现。当水合铝在磷酸盐、硅酸盐和钨酸盐电解质中进行阳极氧化时,内部的水合氧化铝层会阻碍这些电解质阴离子物质的渗透。相反,硼物质很容易穿透水合氧化铝层进入由硼酸中的阳极氧化形成的阻挡层。这种阴离子特定的结合行为是根据在无定形水合氧化铝层中的离子选择性渗透来讨论的。硼物质很容易穿透水合氧化铝层进入由硼酸阳极氧化形成的阻挡层。这种阴离子特定的结合行为是根据在无定形水合氧化铝层中的离子选择性渗透来讨论的。硼物质很容易穿透水合氧化铝层进入由硼酸阳极氧化形成的阻挡层。这种阴离子特定的结合行为是根据在无定形水合氧化铝层中的离子选择性渗透来讨论的。
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