当前位置: X-MOL 学术J. Phys. Chem. Solids › 论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
毫米级GeTe晶面晶体的合成机理及磁阻效应
Journal of Physics and Chemistry of Solids ( IF 4.3 ) Pub Date : 2022-03-04 , DOI: 10.1016/j.jpcs.2022.110671
Can Zhu 1 , Feng Luo 1 , Jian Wang 1 , Xiong He 2 , Zhen Yang 1 , Shun Zhang 1 , Jiafu Wang 1 , Hongxia Liu 3, 4 , Zhigang Sun 1, 3, 4
Affiliation  

GeTe材料在热电、相变开关或存储、铁电、自旋电子等领域有着广泛的应用。在本文中,毫米尺寸的 GeTe 多面晶体是通过非金属催化剂或传输剂的非均相化学反应合成的。大多数晶体具有六边形表面,而少数晶体具有矩形表面,分别以最紧密堆积的(111)面和低能(100)面为主。180°和141°/39°铁电畴壁通过化学蚀刻在六方GeTe晶体的(111)平面上发现。通过研究不同条件下的产物,推测GeTe晶面晶体通过优先沉积的Ge微粒和Te 2的反应在熔点以下生长。/GeTe 2气相,这是由多晶GeTe的部分解离引起的。(111) 面的六方 GeTe 晶体在 4.2 K 和 9 T 条件下表现出约 25.9% 的非饱和线性磁阻 ( MR ),但具有 (100) 面的矩形晶体的MR仅为 ~9.5%。GeTe 的 MR 效应可能与由于 Rashba 效应和碲化物由于重度自掺杂特性而导致的能带结构上的自旋分裂有关。





"点击查看英文标题和摘要"

更新日期:2022-03-04
down
wechat
bug