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使用能量色散 X 射线光谱线扫描轮廓测量纳米级薄膜厚度的新方法
Advanced Materials Interfaces ( IF 4.3 ) Pub Date : 2022-02-02 , DOI: 10.1002/admi.202101489 Min‐Chul Kang 1 , Jin‐Su Oh 1 , Kyeong‐Youn Song 1 , Hoo‐Jeong Lee 1 , Hionsuck Baik 2 , Cheol‐Woong Yang 1
Advanced Materials Interfaces ( IF 4.3 ) Pub Date : 2022-02-02 , DOI: 10.1002/admi.202101489 Min‐Chul Kang 1 , Jin‐Su Oh 1 , Kyeong‐Youn Song 1 , Hoo‐Jeong Lee 1 , Hionsuck Baik 2 , Cheol‐Woong Yang 1
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横截面透射电子显微镜 (TEM) 成像方法广泛用于确定薄膜的纳米级厚度。然而，在 TEM 样品中要分析的薄膜通常具有弯曲或扭曲的形状，或者与电子束方向的对准不良，这很容易由于 TEM 投影伪影而高估厚度。本研究开发了一种使用 TEM 能量色散 X 射线光谱 (EDS) 线扫描测量薄膜厚度的新方法。该方法基于定量线扫描轮廓的恒定积分，而不受几何配置的影响，从而可以克服投影问题。所提出的方法通过 Si/Ti/Si 堆叠样品进行了实验验证。EDS线扫描在同一位置以不同的倾斜角度进行，并且确认每个量化轮廓的积分具有相同的值，从而提供一致的厚度值。无论薄膜的倾斜角度如何，该方法在更准确和可靠地测量薄膜厚度方面是有效的。
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更新日期：2022-02-02
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