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有机锡分子极紫外光刻胶的机械优势
ACS Applied Materials & Interfaces ( IF 8.3 ) Pub Date : 2022-01-24 , DOI: 10.1021/acsami.1c12411 Jonathan H Ma 1, 2 , Craig Needham 3 , Han Wang 4 , Andrew Neureuther 1, 5 , David Prendergast 6 , Patrick Naulleau 1
ACS Applied Materials & Interfaces ( IF 8.3 ) Pub Date : 2022-01-24 , DOI: 10.1021/acsami.1c12411 Jonathan H Ma 1, 2 , Craig Needham 3 , Han Wang 4 , Andrew Neureuther 1, 5 , David Prendergast 6 , Patrick Naulleau 1
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有机锡-氧代体系中极紫外 (EUV) 诱导的辐射暴露化学，以原型 [(R-Sn) 12 O 14 (OH) 6 ](A) 2为代表笼子，已经用密度泛函理论进行了研究。支持 Sn-C 裂解主导化学的现有实验证据，计算表明电子附着或电离可以单独触发锡-碳键裂解，部分解释了目前金属氧化物系统的 EUV 灵敏度优势。我们已经揭示了分子不同部分的锡原子对电离和电子附着的反应不同，并且已经确定这种选择性是由于局部配位化学而不是分子的宏观几何形状。还确定了一种电离-去质子化途径来解释观察到的阴离子共轭酸在曝光时的演变以及抗蚀剂灵敏度中阴离子质量的依赖性。
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更新日期：2022-02-02
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