YFeO3薄膜中反相边界稳定的反位缺陷,Advanced Functional Materials

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YFeO3薄膜中反相边界稳定的反位缺陷
Advanced Functional Materials ( IF 18.5 ) Pub Date : 2021-11-16 , DOI: 10.1002/adfm.202107017
Abinash Kumar ₁ , Konstantin Klyukin ₁ , Shuai Ning ₁ , Cigdem Ozsoy‐Keskinbora ₂ , Mikhail Ovsyanko ₂ , Felix van Uden ₂ , Ruud Krijnen ₂ , Bilge Yildiz _{1,

3} , Caroline A. Ross ₁ , James M. LeBeau ₁

Affiliation

YFeO ₃薄膜是多铁性正铁氧体系列的最新成员，其中 Y _Fe反位缺陷和应变已被证明会在保持磁性的同时引入极性位移。然而，对多铁特性的完全控制需要了解存在的缺陷及其在改变行为中的潜在作用。在这里，使用像差校正扫描透射电子显微镜结合原子分辨率能量色散 X 射线光谱报告了富 Y 多铁性 YFeO ₃薄膜中反相边界的结构和化学。发现 Fe _Y由于局部结构环境的变化，在富含 Y 的薄膜体中不稳定的反位点会沿着反相边界周期性地排列。使用密度泛函理论，表明反相边界是极性和双稳态的，其中 Fe _Y反位点的存在显着降低了转换势垒。这些结果突出了平面缺陷（如反相边界）如何稳定点缺陷，否则这些缺陷不会在结构内形成。

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更新日期：2021-11-16

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