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PtS2 和 SnSe2 中的内在电子传输特性和载流子密度:探索 2D 隧道 FET 的 n+ 源
Advanced Electronic Materials ( IF 5.3 ) Pub Date : 2021-08-05 , DOI: 10.1002/aelm.202100292
Yuichiro Sato 1 , Tomonori Nishimura 1 , Dong Duanfei 2 , Keiji Ueno 3 , Keisuke Shinokita 2 , Kazunari Matsuda 2 , Kosuke Nagashio 1
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范德华二维异质结构是隧道场效应晶体管 (TFET) 的理想平台,因为它具有无悬挂键的异质界面。然而,n +源材料的有限选择限制了 2D-TFET 的研究。在这项研究中,体 PtS 2 的本征电子传输特性和载流子密度 ( n )通过霍尔测量进行实验检查,以探索其作为适合 TFET的 n +源材料与 SnSe 2相比的用途。尽管最大耗尽宽度 ( W Dm ) 和明显的金属I DV G相似在室温下散装样品曲线中,霍尔测量阐明Ñ  ≈3.6×10 17厘米-3在PTS 2比≈4.7×10小得多的18厘米-3的位SnSe 2。他们还揭示了这种差异来自导带下方施主能级的深度。因此,尽管在 n-PtS 2 /p-WSe 2 TFET 中成功观察到带间隧道电流,但由于PtS的非简并掺杂,V G调制了 n-PtS 2源极和 p-WSe 2通道2,导致亚阈值摆动下降。对W Dm -供体浓度 ( N D ) 关系的分析表明,N D不仅受W Dm评估,而且在很大程度上受能隙的影响。不同能隙的一般W DmN D关系为选择适用于 TFET 的 2D 材料提供了指导。



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更新日期:2021-08-05
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