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碳材料的N1s X射线光电子能谱中石墨和吡咯氮峰的起源:季氮,叔胺,还是仲胺?
Journal of Materials Science ( IF 3.5 ) Pub Date : 2021-07-12 , DOI: 10.1007/s10853-021-06283-5 Tomofumi Kato 1 , Yasuhiro Yamada 1 , Hayato Sato 1 , Satoshi Sato 1 , Yasushi Nishikawa 2 , Toshiya Otomo 3
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更新日期:2021-07-28
Journal of Materials Science ( IF 3.5 ) Pub Date : 2021-07-12 , DOI: 10.1007/s10853-021-06283-5 Tomofumi Kato 1 , Yasuhiro Yamada 1 , Hayato Sato 1 , Satoshi Sato 1 , Yasushi Nishikawa 2 , Toshiya Otomo 3
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X 射线光电子能谱 (XPS) 是分析掺氮碳材料结构的最强大技术之一。然而,(1) 石墨氮 (N)/取代 N、季 N (Q–N) 或叔胺 (T–N) 和 (2) 吡咯 N/仲胺或 T–N 的报告分配是有问题的。大多数报告将峰值指定为大约。401 eV 作为 Q-N 或石墨 N,而大多数这些作品中的原材料既不含抗衡阴离子也不含卤素。此外,在大约峰值。400 eV 已被指定为吡咯 N,但 N-H 的存在通常未被证实。在这项工作中,澄清了普遍存在的模糊分配的原因之一是 N 在七边形和五边形环中的存在。400.1-401.2 eV 的峰被确定为 T-N,通过使用拉曼光谱、XPS、X 射线衍射、总中子散射、元素分析和分子动力学分析石墨化聚酰亚胺(氧含量为 0.01 at% 或更低,氢含量为 0 at%),而不是 Q-N模拟。此外,还发现 400.1 eV 处的峰源自 5 元环或 7 和 5 元环上的 T-N,而不是吡咯 N,因为用于分析的石墨不含氢。
图形概要
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