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通过掺杂工程在多功能 BiFeO3 薄膜中可调多铁性​​和无成型双极电阻开关特性
Journal of Alloys and Compounds ( IF 5.8 ) Pub Date : 2021-07-27 , DOI: 10.1016/j.jallcom.2021.161336
Himadri Nandan Mohanty 1 , Anjan Kumar Jena 1, 2, 3 , Urvashi Yadav 1 , Ajit Kumar Sahoo 1 , Syam Prasad P. 1 , J. Mohanty 1
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多铁基材料的出现为未来非易失性存储技术的高可调多功能材料和超快速操作打开了大门。多功能菱形Bi 0.94 Y 0.06 Fe 0.95 Mn 0.05 O 3(BYFMO) 薄膜生长在掺氟氧化锡上,以研究 Ag/BYFMO/FTO RRAM 配置中的机电和电阻开关特性。紫外可见吸收光谱揭示了 BYFMO 的半导体行为,发现带隙为 2.37 eV。磁滞曲线通过抑制螺旋自旋调制结构表现出软铁磁性质,并得到 MFM 成像的支持。Y-Mn 共掺杂 BFO 具有高度可调的压电和铁电特性,最大畴优选沿 71 0和 109 0。随着尖端偏置电压的增加,观察到横向域的增长。Ag/BYFMO/FTO RRAM 在 SET (ON) 和 RESET (OFF) 过程中显示出明显的双极电阻开关行为在电压VSET  = + 1.7 VV RESET  = − 2.8 V分别。高阻态和低阻态之间的内存窗口(ON/OFF)约为 100,可以持续长达 100 个测试周期和 10 3而没有任何退化,表明基于 BYFMO 的器件表现出更好的耐久性和保持性能. 此外,该器件的电阻开关机制可以通过空间电荷限制电流传导很好地解释,这得到了传导丝状模型的很好支持。凭借出色的压电和电阻开关性能,多功能 BYFMO 具有足够的潜力用于未来的非易失性存储技术。





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更新日期:2021-07-27
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