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氟离子选择性电极膜 LaF3 的 XPS 研究：离子干扰
Surface and Interface Analysis ( IF 1.6 ) Pub Date : 1989-08-01 , DOI: 10.1002/sia.740140806
R. De Marco , R. W. Cattrall , J. Liesegang , G. L. Nyberg , I. C. Hamilton
Surface and Interface Analysis ( IF 1.6 ) Pub Date : 1989-08-01 , DOI: 10.1002/sia.740140806
R. De Marco , R. W. Cattrall , J. Liesegang , G. L. Nyberg , I. C. Hamilton
XPS 已被用于研究发生在氟离子选择性电极膜表面的离子交换过程。结果表明，离子交换发生的深度远大于最外层固体表面单层的深度。研究了氢氧根离子干扰对电极响应的影响，并提出了其作用机制。对暴露于碳酸盐和磷酸盐离子的电极膜的研究表明，不能仅通过考虑溶度积来解释对电极响应的干扰。
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更新日期：1989-08-01
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