摘要 研究了氟化钇薄膜的光学、结构和化学性质。对于蒸发到热基板 (280 °C) 上的薄膜，在 λ = 0.6 μm、4 μm 和 10 μm 处发现的折射率值分别为 1.53、1.48 和 1.3。在室温下蒸发到基材上的薄膜在水振动频率（即 2.98 μm 和 6.5-7.5 μm）处显示出略低的折射率和强吸收带。该材料在低于 180 °C 的温度下以非晶形式凝聚在基材上，而在高于 200 °C 的温度下，所有薄膜都显示出晶体结构。与以 1.5 nm s-1 的速率蒸发的膜相比，0.7 nm s-1 的沉积速率产生了机械强度更高的膜。



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