在由作为新型光酸产生剂的二苯基碘 9,10-二甲氧基蒽-2-磺酸盐、作为溶解抑制剂的叔丁氧基羰基保护的双酚 A 和酚醛清漆抗蚀剂基质组成的正性光刻胶中，光酸产生和脱保护反应的效率分别为通过紫外-可见光和红外光谱进行研究。使用酸敏感染料对光生酸进行的定量测量表明，酚醛清漆树脂膜中酸生成的量子产率为 0.18。研究了该系统作为化学放大抗蚀剂的光刻评价。当在 80°C 下进行 10 分钟的曝光后烘烤 (PEB) 时，酸催化脱保护步骤的催化链长度确定为约 100。作为正光刻胶的灵敏度和分辨率为 180 mJ/cm2 且高于 1 μm，



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