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无机基材料的纳米压印光刻加工
Chemistry of Materials ( IF 7.2 ) Pub Date : 2021-07-06 , DOI: 10.1021/acs.chemmater.1c00693
Mehrnaz Modaresialam 1 , Zeinab Chehadi 1 , Thomas Bottein 1 , Marco Abbarchi 1 , David Grosso 1
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我们回顾了纳米压印光刻 (NIL) 方法的过去和最近进展,以将无机材料从溶胶-凝胶液体配方和胶体悬浮液(纳米)结构化到表面上。这种技术最初受到压花技术的启发,开发用于软聚合物加工,作为最终或中间材料,但今天完全适用于具有高介电常数的硬无机材料,例如金属氧化物,溶胶提供了无数的化学成分——凝胶化学。因此,NIL 已成为一种多功能、高通量和高精度的微细加工方法,对于实验室开发和放大来说已经成熟。我们首先描述了纳米制造方法的一般性以及过去几十年开发的从无机溶液中压印金属氧化物的大量方法。在性能、问题和易于实施方面对这些进行了讨论和比较。最后一部分专门讨论感兴趣领域中的相关应用。



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更新日期:2021-07-27
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