当前位置：
X-MOL 学术
›
Appl. Surf. Sci.
›
论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your
feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
葡萄糖氧化酶固定在 SiO2 表面的层均匀性
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 2007-09-01 , DOI: 10.1016/j.apsusc.2007.05.039
Sebania Libertino , Antonino Scandurra , Venera Aiello , Filippo Giannazzo , Fulvia Sinatra , Marcella Renis , Manuela Fichera
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 2007-09-01 , DOI: 10.1016/j.apsusc.2007.05.039
Sebania Libertino , Antonino Scandurra , Venera Aiello , Filippo Giannazzo , Fulvia Sinatra , Marcella Renis , Manuela Fichera
摘要 这项工作的目标是逐步表征固定在氧化硅表面上的酶葡萄糖氧化酶 (GOx)，主要是通过 X 射线光电子能谱 (XPS)。固定化协议由四个步骤组成：氧化物活化、硅烷化、接头分子沉积和 GOx 固定化。本研究中的连接分子戊二醛 (GA) 必须能够在样品表面形成均匀的层，以最大化酶结合的可用位点并实现最佳的酶沉积。使用在 Si 晶片上生长的薄 SiO2 层并在固定步骤期间遵循 Si 衬底的 XPS Si2p 信号，我们证明了戊二醛层的均匀性和使用 XPS 监测薄层均匀性的可能性。事实上，XPS 底物信号，没有被氧化物屏蔽，只有在沉积均匀层时才会被抑制。使用 XPS C1s 和 N1s 信号监测酶的正确固定。对相同样品进行的原子力显微镜 (AFM) 测量证实了结果。
"点击查看英文标题和摘要"
更新日期：2007-09-01
"点击查看英文标题和摘要"
京公网安备 11010802027423号