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氧辉光放电中 KCl 表面氧化的 XPS 研究
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 1988-05-01 , DOI: 10.1016/0169-4332(88)90004-9 J. Stoch , M. Ladecka
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 1988-05-01 , DOI: 10.1016/0169-4332(88)90004-9 J. Stoch , M. Ladecka
摘要 利用 X 射线光电子能谱 (XPS) 研究了辉光放电中 KCl 表面与氧之间的反应。氧辉光放电处理导致超氧化物的形成，超氧化物在室温真空下分解为KO 2 ，最后分解为K 2 O。没有发现形成KClO 3 或KClO 4 的证据。测定了氧化钾中某些氧物质的结合能。讨论了钾在乙烯环氧化的 K 掺杂银催化剂中的可能作用。
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更新日期：1988-05-01
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京公网安备 11010802027423号