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天然氧化物/Ta 界面处低价氧化物分布的 XPS 深度剖面
Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena ( IF 1.8 ) Pub Date : 2009-01-01 , DOI: 10.1016/j.elspec.2008.10.004
Manika Khanuja , Himani Sharma , B.R. Mehta , S.M. Shivaprasad
Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena ( IF 1.8 ) Pub Date : 2009-01-01 , DOI: 10.1016/j.elspec.2008.10.004
Manika Khanuja , Himani Sharma , B.R. Mehta , S.M. Shivaprasad
通过观察核心能级光谱、价带光谱和功函数变化，对多晶 Ta 样品上自然形成的天然氧化物的 X 射线光电子能谱 (XPS) 深度剖面研究进行了探测。本论文解决了沿氧化物层深度存在不同 Ta 低氧化物的问题。核能级光谱、价带和功函数测量都表明绝缘 Ta2O5 向金属 Ta 的转变，具有 Ta 亚氧化物的渐变分布。讨论了离子束照射的影响和合成方法中的变化对确定轮廓的影响。通过使用不同的离子束能量，研究表明离子束引起的效应可以忽略不计。
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更新日期：2009-01-01
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