摘要 在目前的工作中，已成功制备出具有独特和前所未有的性能的新型氮化硼 (BN) 纳米材料，例如具有恒定带隙、高化学稳定性、高导热性和优异机械性能的半导体，具有不同形态的 BN 纳米颗粒和 BN 纳米片。其工程采用固态高温化学反应，并采用粉末傅里叶变换红外光谱、X射线衍射技术和高分辨率透射电子显微镜等各种技术来检查其形貌和其他理化性质。FT-IR 光谱揭示了 B-N 键拉伸和 B-N-B 键弯曲的存在。这些 BN 纳米材料的六方结构从 XRD 数据中泄露出来，而它们不同的形态和大小是从高分辨率透射电子显微镜中描绘出来的。发现纳米颗粒是球形的，平均直径为~30 nm，BN 片是二维的，平均厚度为~0.90 nm。通过高分辨率透射电子显微镜确定的 3.30 A 晶格间距与使用 XRD 数据计算的结果非常一致。对于BN纳米颗粒和BN纳米片，根据BET分析计算的高表面积分别为120.68 m 2 g -1 和50.02 m 2 g -1 。目前的工作还报告了合成的 BN 纳米材料对两种不同染料分子（即亮绿和甲基橙）的吸附行为。通过改变许多实验参数，如初始染料浓度、吸附剂剂量、pH 值和时间，已经优化了吸附条件。通过在 B3LYP/6-31G 理论水平的密度泛函理论形式体系内进行计算，已经了解染料分子与被吸附物纳米材料的相互作用、吸附过程可行性的性质。



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