当前位置: X-MOL 学术J. Mol. Struct. › 论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
取代基对一组 4-氨基- 4 H - 1,2,4-三唑的发光性能的影响:合成、晶体结构和 Hirshfeld 分析
Journal of Molecular Structure ( IF 4.0 ) Pub Date : 2021-06-14 , DOI: 10.1016/j.molstruc.2021.130893
Yu-Rong Xi , Xu-Kai Chen , Yong-Tao Wang , Gui-Mei Tang , Xiao-Min Chen , Yu-Song Wu , Shi-Ning Wang

一组基于4-氨基-4 H -1,2,4-三唑基团的化合物,即4,4'-(4-amino-4H-1,2,4-triazole-3,5-diyl)二苯甲酸(1),4,4' - (4-氨基-4H-1,2,4-三唑-3,5-二基)二苯胺(2),4,4' - (4-氨基-4- ħ - 1,2,4-三唑-3,5-二基)二酚( 3 ),分别在溶剂热条件下与不同的芳香腈和肼反应得到。标题化合物1-3已通过 IR、UV-Vis、1 H NMR、13 C NMR、元素分析 (EA)、单晶 X 射线衍射和粉末 X 射线衍射 (PXRD) 进行表征。在这些化合物中,大量的氢键 (C/N–H⋯O/N) 和 C单键H∙∙∙π 显然可以得到,通过它可以构建一个三维框架。的固态发光光谱1 - 3显示,发射最大值在398,464和402nm处观察到分别,。最大峰值的顺序是1<3<2。Hirshfeld 表面分析证实,C∙∙∙H/H∙∙∙C 和 H∙∙∙H 接触的贡献顺序为1<3<2,这与发光带的贡献顺序非常吻合。





"点击查看英文标题和摘要"

更新日期:2021-06-22
down
wechat
bug