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过渡金属碳化物和氧碳化物氧化功函数的降低
ACS Omega ( IF 3.7 ) Pub Date : 2021-05-27 , DOI: 10.1021/acsomega.1c01671
Wataru Hayami 1 , Shuai Tang 2 , Ta-Wei Chiu 2 , Jie Tang 2
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在此,通过第一性原理计算研究了第 4 族和第 5 族过渡金属(Ti、Zr、Hf、V、Nb 和 Ta)碳化物和过渡金属碳氧化物(TMCO)的功函数,以研究它们作为电子的潜在应用。发射器。随着碳原子被氧取代,两组的功函数均下降,第 4 组的还原量大于第 5 组。尤其是 ZrC 1– x O x和 HfC 1– x O x ( x ≥ 0.25) 表现出小于 3 eV 的功函数,与 LaB 6 的功函数相当- 和 ZrO 涂层钨。功函数的减少可以用电子态密度的刚带模型来解释。价电子的增加增加了费米能量,而它对真空势的影响较小,导致功函数降低。声子色散曲线表明,NaCl 型第 5 组 TMCO 不如第 4 组 TMCO 稳定。这符合该实验发现的TaC 1- X ø X没有被合成和NbC的1- X ø X只为更小的值来合成X(即,X< 0.28)。从功函数和结构稳定性的角度来看,第 4 族(Ti、Zr 和 Hf)TMCO 比第 5 族(V、Nb 和 Ta)TMCO 作为电子发射体表现出更好的应用潜力。



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更新日期:2021-06-08
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