当前位置：
X-MOL 学术
›
Nano Lett.
›
论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your
feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
通过图案化应力自发形成有序磁畴
Nano Letters ( IF 9.6 ) Pub Date : 2021-04-13 , DOI: 10.1021/acs.nanolett.1c00070 Jian Zhang 1 , Won-Kyu Lee 2, 3 , Rui Tu 1 , Dongjoon Rhee 4 , Rongzhi Zhao 1 , Xinyu Wang 1 , Xiaolian Liu 1 , Xin Hu 1 , Xuefeng Zhang 1 , Teri W Odom 4, 5 , Mi Yan 1
Nano Letters ( IF 9.6 ) Pub Date : 2021-04-13 , DOI: 10.1021/acs.nanolett.1c00070 Jian Zhang 1 , Won-Kyu Lee 2, 3 , Rui Tu 1 , Dongjoon Rhee 4 , Rongzhi Zhao 1 , Xinyu Wang 1 , Xiaolian Liu 1 , Xin Hu 1 , Xuefeng Zhang 1 , Teri W Odom 4, 5 , Mi Yan 1
Affiliation
|
在薄膜中形成有序磁畴对于自旋电子学、磁光学和磁性微机电系统中的磁性微器件很重要。尽管在磁致伸缩材料中诱导各向异性应力可以实现畴组装，但控制微尺度区域的磁各向异性具有挑战性。在这项工作中，我们通过工程应力分布实现了磁畴的微观图案化。铁磁薄膜沉积在纳米沟槽聚合物层上会在界面处引起张应力，从而产生定向磁弹性耦合以自发形成有序畴。通过改变纳米沟槽的周期性和形状，我们通过设计在空间上调整了域的几何配置。
"点击查看英文标题和摘要"
更新日期：2021-04-13
"点击查看英文标题和摘要"
京公网安备 11010802027423号