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原子层沉积粉末材料的表面改性和功能化:综述

RSC Advances ( IF 3.9 ) Pub Date : 2021-3-23 , DOI: 10.1039/d1ra00326g
Yiyun Hu 1, 2 , Jian Lu 3 , Hao Feng 1, 2, 3
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粉末材料是一类具有许多重要应用的工业材料。在某些情况下,这些材料的表面改性和功能化对于实现或增强其预期性能至关重要。然而,由于高表面积、扩散限制和颗粒团聚等一系列问题,粉末材料的有效和精确的表面改性仍然是一个挑战。原子层沉积(ALD)是一种传统用于半导体行业的尖端薄膜涂层技术。 ALD 通过气态前体和基底之间交替的饱和表面反应实现逐层薄膜生长。 ALD 表面反应的自限性提供了埃级厚度控制以及复杂结构上卓越的薄膜共形性。凭借这些优势,ALD 已成为有效制造粉末材料的强大工具,可用于微电子以外的许多领域。本综述重点介绍 ALD 在粉末材料表面工程中的独特能力,包括用于粉末制造的 ALD 反应器设计的最新进展,以及 ALD 在颗粒稳定、催化剂、含能材料、电池、吸波等领域的应用材料和药品。我们旨在展示ALD在制备各种粉末材料方面的多功能性和功效,帮助读者深入了解ALD制备粉末的原理、方法和独特效果。




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更新日期:2021-03-25
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