在这项工作中，我们开发了比例缩放范围方法及其形式，以研究氧化铟锡（ITO）薄膜的表面形态动力学。通过原子力显微镜（AFM）研究了在室温下通过电子束沉积法在浮法玻璃基板上制备的生长的ITO薄膜的动态缩放行为。AFM数据表明，随着膜厚度从100nm增加到250nm，膜的平均表面粗糙度值降低。基于分形概念和统计物理技术，分析了ITO薄膜的不规则性。ITO膜的粗糙度指数H和生长指数β分别确定为0.71±0.01和0.11±0.01。分形分析表明，分形维数Df（Df = 3-H）的值在2.29至2的范围内。24取决于膜的厚度。这些结果表明，膜的生长过程可以通过Edwards-Wilkinson和Mullins扩散模型的组合来描述。



"点击查看英文标题和摘要"