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电沉积Ni-Sn合金显微组织的TEM-EDX观察
MATERIALS TRANSACTIONS Pub Date : 2006-01-01 , DOI: 10.2320/matertrans.47.1550
Satoshi Oue 1 , Hiroaki Nakano 1 , Ryo Kuroda 2 , Shigeo Kobayashi 3 , Hisaaki Fukushima 1
Affiliation  

通过TEM-EDX分析了从含有5-40%金属锡的65°C氯化物溶液中以50-5000 A / m 2电沉积的Ni-Sn合金的微观结构。Ni-Sn合金的沉积表现出特征性的行为,因为在宽范围的溶液成分和电流密度下,Ni和Sn以1:1的原子比共沉积。超过1000 A / m 2沉积的Ni-50 at%Sn合金的横截面的Ni和Sn EDX映射图像显示出平行于基底和沉积物之间界面的层状图案,表明具有不同的Ni-Sn合金的交替沉积成分。通过EDX线分析将Ni-Sn合金鉴定为Ni3Sn4和Ni3Sn2。结论是,沉积超过1000 A / m 2的Ni-50 at%Sn合金不是由先前报道的亚稳态NiSn单相合金组成,而是由热力学稳定相的Ni3Sn4和Ni3Sn2合金组成。[doi:10.2320 / matertrans.47.1550]



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更新日期:2006-01-01
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