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嵌入2D NbSe 2材料的原子开关抑制了随机开关行为并改善了突触功能
ACS Applied Materials & Interfaces ( IF 8.3 ) Pub Date : 2021-02-16 , DOI: 10.1021/acsami.0c18784
Yu-Rim Jeon 1 , Jungmin Choi 2 , Jung-Dae Kwon 2 , Min Hyuk Park 3 , Yonghun Kim 2 , Changhwan Choi 1
Affiliation  

我们研究了化学气相沉积(CVD)二维(2D)二硒化铌(NbSe 2)材料的电阻切换和突触特性。研究了三种不同的原子开关器件Ag / HfO 2 / Pt,Ag / Ti / HfO 2 / Pt和Ag / NbSe 2 / HfO 2 / Pt作为记忆和神经形态器件。插入的Ti和NbSe 2缓冲层均有效地控制了随机的Ag离子扩散,从而抑制了开关特性的变化,这在原子开关器件中是一个关键问题。特别是带有2D NbSe 2的设备缓冲层显着增强了设备在耐用性和保持性方面的可靠性。结合控制银离子迁移的扫描透射电子显微镜(STEM)和能量分散光谱(EDS)分析,可以理解,灯丝连接与SET和RESET过程相关。除了具有存储设备中的电阻行为外,还通过具有2D NbSe 2缓冲层的原子开关演示了各种突触功能,例如依赖于峰率的可塑性(SRDP),遗忘曲线,增强和抑制。此外,使用MNIST 28×28像素数据库对模拟的长期突触特性进行了仿真。使用采用CVD 2D NbSe 2 阻挡层,可以很好地控制随机的Ag离子扩散行为,因此可以获得稳定的开关和突触功能。



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更新日期:2021-03-03
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