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通过激活强 Si-Cl 键进行自由基硅烷化的电还原方法
Journal of the American Chemical Society ( IF 14.4 ) Pub Date : 2020-12-08 , DOI: 10.1021/jacs.0c10899
Lingxiang Lu 1 , Juno C. Siu 1 , Yihuan Lai 1 , Song Lin 1
Journal of the American Chemical Society ( IF 14.4 ) Pub Date : 2020-12-08 , DOI: 10.1021/jacs.0c10899
Lingxiang Lu 1 , Juno C. Siu 1 , Yihuan Lai 1 , Song Lin 1
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C(sp3)-Si 键的构建在合成、医药和材料化学中很重要。在这种情况下，由甲硅烷基介导的反应变得越来越有吸引力，但获得这些中间体的方法仍然有限。我们提出了一种通过电还原容易获得的氯硅烷来生成甲硅烷基自由基的新策略。在高度偏置的电位下，电化学通过强 Si-Cl 键的能量上坡还原裂解获得甲硅烷基自由基。事实证明，该策略在简单且无过渡金属条件下的各种烯烃甲硅烷化反应中是通用的，包括二甲硅烷基化、氢化甲硅烷基化和烯丙基甲硅烷基化。
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更新日期：2020-12-08
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