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在常压下轻松合成垂直排列的MoS2纳米片
Crystal Research and Technology ( IF 1.5 ) Pub Date : 2020-11-26 , DOI: 10.1002/crat.202000085
Chandra Kamal Borah 1 , Sanjeev Kumar 1
Affiliation  

使用普通管式炉在850°C的温度和大气压条件下,将垂直排列的2D二硫化钼(MoS 2)纳米片直接生长在SiO 2 / Si衬底上。为了获得高质量的垂直排列的二维MoS 2,要改变前体材料(即三氧化钼(MoO 3)粉末和硫(S))的量,同时保持其他参数(例如温度和载气流速)恒定。拉曼光谱法证实了2D MoS 2层的形成,并说明了生长的MoS 2为几层形式且具有良好的结晶度。拉曼光谱确定了最佳质量的2D MoS 2。通过原子力显微镜(AFM)和场效应扫描显微镜(FESEM)进行的MoS 2的形貌和形态研究表明,合成后的MoS 2是垂直排列的。进行X射线衍射和能量色散光谱(EDS)以确定产品中的相和元素。在当前的工作中,重点是垂直对齐而不是2D MoS 2的厚度。最后,证明了在大气压力条件下,通过改变MoO 3和S的量,可以使用简单的普通管式炉在SiO 2 / Si衬底上简单地生长垂直取向的2D MoS 2



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更新日期:2021-01-07
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