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衬底诱导的外延石墨烯和SiO2上化学气相沉积法生长的MoS2的形态和结构特性的变化。
ACS Applied Materials & Interfaces ( IF 8.3 ) Pub Date : 2020-09-15 , DOI: 10.1021/acsami.0c06173
Jakub Sitek 1 , Janusz Plocharski 2 , Iwona Pasternak 1 , Arkadiusz P Gertych 1 , Clifford McAleese 3 , Ben R Conran 3 , Mariusz Zdrojek 1 , Wlodek Strupinski 1
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在这项工作中,我们报告了衬底类型对通过化学气相沉积(CVD)生长的二硫化钼(MoS 2)的形态和结构特性的影响。响应于热力学条件的变化,在三维(3D)衬底(即SiO 2)上合成的MoS 2产生了不同的晶粒形貌,包括三角形,截头三角形和圆形。同时,石墨烯上的MoS 2对生长条件的改变具有高度的免疫力,仅形成三角形晶体。我们解释了MoS 2在SiO 2上的区别石墨烯和石墨烯的表面扩散机制不同,分别是跳跃和类似气体分子碰撞的机制。结果,我们观察到在石墨烯上形成了热力学上有利的核形,而在SiO 2上,可以实现全谱域形。此外,石墨烯可以很好地承受生长过程,应变和掺杂仅发生很小的变化。此外,通过将石墨烯用作生长基质,我们可以实现范德华外延并实现无应变生长,这是光致发光(PL)研究表明的。我们指出,与拉曼光谱相反,PL使我们能够任意确定MoS 2中的应变水平。



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更新日期:2020-10-07
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