采用气体簇离子束 （GCIB） 溅射源与高分辨率 X 射线光电子能谱测量相结合，在浸入氯化物溶液后，对黄铜基板上的 2-巯基苯并咪唑 （MBIH） 缓蚀剂表面层进行缓慢溅射和分析。此外，还进行了 ToF-SIMS 测量和成像，以进一步描述该表面层的结构。此外，串联 ToF-SIMS （MS/MS） 技术的强大特性被证明可以检测和确认黄铜腐蚀产物和 MBIH 之间形成的有机金属络合物。此外，还考虑了 63Cu、65Cu、64Zn 和 66Zn 与 MBIH 结合的有机金属络合物的光谱干扰问题。在正极性和负极性下进行大面积 ToF-SIMS 成像 （4.8 x 3.2 mm），以显示 MBIH 在黄铜表面的 2D 分布。最后，使用 GCIB 和 C60++ 溅射源的 3D ToF-SIMS 成像显示了 MBIH/黄铜界面处不同物质的深度分布。这种类型的分析是目前缓蚀剂表面分析中最先进的。



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