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Ga2O3多晶型物:调整外延生长条件
Journal of Materials Chemistry C ( IF 5.7 ) Pub Date : 2020-07-14 , DOI: 10.1039/d0tc02743j
M. Bosi 1, 2, 3 , P. Mazzolini 2, 3, 4, 5, 6 , L. Seravalli 1, 2, 3 , R. Fornari 1, 2, 3, 4, 5
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氧化镓是一种宽带隙n型半导体,对光电子应用(例如,电力电子和太阳盲UV光电探测器)非常感兴趣。Ga 2 O 3除了具有最热力学上稳定的单斜晶β相外,还可以结晶成不同的多晶型。其中刚玉α相和正交相ε相是最有前途的。在这篇综述中,我们集中于促进这些Ga 2 O 3多晶型物成核和稳定生长的主要方面。特别强调的是考虑到ε相,因为它是最近越来越多的关注在科学界,因为:(i)该更高的晶格对称的相对的β-Ga 2 Ø 3,这可能有助于实现异质结构,(ii)在廉价的蓝宝石衬底上生长的可能性,以及(iii)其独特的压电特性。同时的β-Ga的生长2 ö 3被广泛地研究和理解的化学和物理方面,其允许亚稳Ga构成的稳定的透彻和全面的分析2 ö 3相用不同合成方法仍然缺少。因此,本综述旨在通过分析几种生长技术(MOVPE,HVPE,薄雾CVD,MBE和PLD)的相关生长参数来填补这一空白,强调相似点和不同点,寻找一个统一的框架来理解生长和Ga 2的成核O 3多晶型物。总之,我们重点介绍了使用所有讨论的薄膜生长技术沉积不同Ga 2 O 3多晶型物的实用指南。



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更新日期:2020-08-21
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