当前位置:
X-MOL 学术
›
Appl. Surf. Sci.
›
论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your
feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
使用参考材料通过 SIMS 和 XPS 深度分析对 Si 1-x Ge x 合金薄膜进行定量分析
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 2018-02-01 , DOI: 10.1016/j.apsusc.2017.08.136 Won Jin Oh , Jong Shik Jang , Youn Seoung Lee , Ansoon Kim , Kyung Joong Kim
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 2018-02-01 , DOI: 10.1016/j.apsusc.2017.08.136 Won Jin Oh , Jong Shik Jang , Youn Seoung Lee , Ansoon Kim , Kyung Joong Kim
摘要 比较了多元素合金薄膜的定量分析方法。Si 1-x Ge x 合金膜的原子分数是通过深度剖面分析用二次离子质谱法(SIMS)和X射线光电子能谱法(XPS)测量的。强度到成分转换因子 (ICF) 用作将强度转换为成分的平均值,而不是相对灵敏度因子。通过常规方法、平均强度(AI)方法和总数计数(TNC)方法从参考Si 1-x Ge x 合金膜确定ICF。在 SIMS 的情况下,虽然由于严重的基质效应,氧离子束测量的原子分数不是定量的,但铯离子束测量的结果非常定量。SIMS 使用MCs 2 + 离子的定量分析结果与XPS 的结果相当。在 XPS 的情况下,AI 方法和 TNC 方法大大改善了测量不确定度。
"点击查看英文标题和摘要"
更新日期:2018-02-01
"点击查看英文标题和摘要"