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气相沉积聚(3-己基噻吩)的红外和光电子能谱研究
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 2009-07-01 , DOI: 10.1016/j.apsusc.2009.06.031
Haoyan Wei , L. Scudiero , Hergen Eilers

聚(3-己基噻吩)(P3HT)在真空中热蒸发和沉积。红外光谱用于确认薄膜确实是 P3HT,并表明原位热蒸发为超高真空 (UHV) 环境中 P3HT 的无污染物表面/界面分析提供了可行的途径。进行了紫外光电子能谱 (UPS) 和 X 射线光电子能谱 (XPS) 实验,以检查在 UHV 中气相沉积在清洁多晶银 (Ag) 表面上的 P3HT 薄膜的前沿轨道和核心能级。UPS 光谱能够确定聚合物/金属界面处的真空位移、价带最大值 (VBM) 和覆盖膜的 π 带能量。随着薄膜厚度的增加,P3HT 真空水平与底层 Ag 的真空水平相反。XPS 和 UPS 数据证实了聚合物在高覆盖率下的化学完整性(化学计量),以及 C 1s 和 S 2p 结合能峰和二次电子边缘随着薄膜厚度的增加而移动,表明存在带弯曲在 P3HT/Ag 界面处,测得的价带起始点相对于费米能级约为 0.8 ± 0.05 eV。



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更新日期:2009-07-01
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