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Ni1-xSrxO纳米结构中的介电弛豫和跳跃传导机制
Materials Chemistry and Physics ( IF 4.3 ) Pub Date : 2020-01-01 , DOI: 10.1016/j.matchemphys.2019.121959
M. Naseem Siddique , Ateeq Ahmed , P. Tripathi

摘要 通过直流和交流传导测量系统地研究了溶胶-凝胶制备的 Ni1-xSrxO (x = 0.00, 0.02, 0.04) 纳米结构的电传输和传导特性。已经使用 X 射线衍射精修和透射电子显微镜 (TEM) 分析研究了样品的相纯度和结构。观察到金属到半导体的转变发生在纯 NiO 样品中,而在 Sr 插入 NiO 晶格时被抑制。已发现 DC 传导的活化能 (Ea) 介于 0.18 和 0.49 meV 之间。此外,我们还观察到掺杂 NiO 样品中的弛豫过程,这是由介电常数的峰值行为建立的。讨论传导机制,已经使用基于量子力学隧道效应的非重叠小极化子 (NSPT) 模型分析了频率指数“n”的交流电导率和温度依赖性。同时,使用与NSPT模型相关的AC电导率数据计算最大势垒高度(结合能)(Wm)、AC活化能、隧穿距离(Rw)和费米能级N(EF)的态密度值。此外,阻抗谱表明纯样品和 Sr 掺杂样品在 30°C 和 150°C 的温度下表现出高阶绝缘行为。隧道距离 (Rw) 和费米能级 N (EF) 的态密度。此外,阻抗谱表明纯样品和 Sr 掺杂样品在 30°C 和 150°C 的温度下表现出高阶绝缘行为。隧道距离 (Rw) 和费米能级 N (EF) 的态密度。此外,阻抗谱表明纯样品和 Sr 掺杂样品在 30°C 和 150°C 的温度下表现出高阶绝缘行为。



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更新日期:2020-01-01
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