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LiMgBi中的体积膨胀压力(VEP)驱动非平凡的拓扑相变。
Physical Chemistry Chemical Physics ( IF 2.9 ) Pub Date : 2020-02-13 , DOI: 10.1039/c9cp06155j Raghottam M Sattigeri 1 , Sharad Babu Pillai , Prafulla K Jha , Brahmananda Chakraborty
Physical Chemistry Chemical Physics ( IF 2.9 ) Pub Date : 2020-02-13 , DOI: 10.1039/c9cp06155j Raghottam M Sattigeri 1 , Sharad Babu Pillai , Prafulla K Jha , Brahmananda Chakraborty
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拓扑绝缘体(TI)沿表面态表现出强大的自旋锁定无耗费米子传输。在本研究中,我们使用第一性原理计算来研究由体积膨胀压力(VEP)驱动的半霍斯勒(HH)化合物LiMgBi的拓扑相变(TPT),这归因于存在固有空隙,热扰动和/或归因于称为腔核的现象。我们发现,LiMgBi(属于F4 [组合宏] 3m [216]空间组)的动态稳定的面心立方(FCC)结构经历了超过临界VEP(4.0%)的TPT。从0.0%到8.0%的VEP连续施加会导致从带状绝缘子到Dirac半金属性质的相变。定性地,根据电子能带结构(EBS)和投影局部态密度(LDOS)分析了布里克因区(BZ)中沿高对称点Γ的狄拉克锥的形成和能带反转。TPT的特征还在于沿着(0001)表面的[Doublestruck Z] 2不变量((v0,v1ν2ν3)≡(1、0 0 0))定量表示HH LiMgBi是强TI。因此,我们提出HH LiMgBi(以其压电,热电和半导体应用而著称)作为强大的TI,在电子,自旋电子学和量子计算领域具有潜在的多功能用途。0 0 0)沿(0001)面定量表示HH LiMgBi是强TI。因此,我们提出HH LiMgBi(以其压电,热电和半导体应用而著称)作为强大的TI,在电子,自旋电子学和量子计算领域具有潜在的多功能用途。0 0 0)沿(0001)面定量表示HH LiMgBi是强TI。因此,我们提出HH LiMgBi(以其压电,热电和半导体应用而著称)作为强大的TI,在电子,自旋电子学和量子计算领域具有潜在的多功能用途。
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更新日期:2020-02-26
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