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晶体框架材料中的邻近效应:MOF和COF中的堆叠诱导功能
Advanced Functional Materials ( IF 18.5 ) Pub Date : 2020-02-06 , DOI: 10.1002/adfm.201908004
Agnieszka Kuc 1 , Maximilian A. Springer 1, 2 , Kamal Batra 2 , Rosalba Juarez‐Mosqueda 3 , Christof Wöll 4 , Thomas Heine 1, 2
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金属有机框架(MOF)和共价有机框架(COF)由分子结构单元组成,这些结构单元通过牢固的键缝在一起。它们以其孔隙率,大表面积和相关特性而闻名。大多数MOF和COF的电子特性是其构成基础的电子特性的叠加。但是,如果是晶体,则可以观察到固态现象,例如电导率,电子带的充分分散,吸收带变宽,准分子态的形成,移动电荷载流子和间接带隙。这些效应通常是由堆积的芳族结构单元之间的范德华相互作用引起的邻近效应而出现的。在此显示了这种邻近效应是如何施加功能的,即 通过堆叠芳族分子,使MOF和COF中出现非凡的特性。在讨论了石墨烯相关材料的邻近效应后,显示了其对分层COF和MOF的重要性。对于结构明确的MOF,可以通过改变MOF拓扑,晶格常数以及连接空间控制单元来控制芳族结构单元的堆栈。最后,在总结了用于有序表面安装MOF的逐层生长技术之前,对用于预测和分析这些影响的理论方法进行了概述。可以通过变化的MOF拓扑结构,晶格常数和附加空间控制单元来控制芳族结构单元的堆栈。最后,在总结了用于有序表面安装MOF的逐层生长技术之前,对用于预测和分析这些影响的理论方法进行了概述。可以通过变化的MOF拓扑结构,晶格常数和附加空间控制单元来控制芳族结构单元的堆栈。最后,在总结了用于有序表面安装MOF的逐层生长技术之前,对用于预测和分析这些影响的理论方法进行了概述。



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更新日期:2020-02-06
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