Si-Ta 和 Si-W 系统的相图和热力学特性的知识对于电气和电子设备中 Ta、W 和 SiC 之间的金属接触具有技术重要性。Si-Ta 和 Si-W 系统的相图和热力学性质使用 CALPHAD 方法和可用的实验数据进行评估。这两个系统的金属间化合物被建模为化学计量的。获得了一组自洽的热力学参数，并且发现计算出的相平衡与大多数实验数据具有合理的一致性。将计算出的 Si-Ta 和 Si-W 系统中硅化物的形成焓与报告的值进行比较。以2000 K下相似Si-过渡金属体系中液体的混合焓进行比较，以判断计算的合理性。Si-Ta 和 Si-W 二元系统的评估热力学描述将作为 Si-CM（M：Ta 和 W）合金热力学数据库的一部分。



"点击查看英文标题和摘要"