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2.5 D 碳/碳复合材料由原位生长的碳化铪纳米线改性以增强电磁屏蔽性能和抗氧化性
Carbon ( IF 10.5 ) Pub Date : 2020-05-01 , DOI: 10.1016/j.carbon.2020.01.080 Song Tian , Lu Zhou , Zhongtian Liang , Yu Yang , Yanru Wang , Xinfa Qiang , Shilin Huang , Haojie Li , Shi Feng , Zhonghao Qian , Yangbo Zhang
Carbon ( IF 10.5 ) Pub Date : 2020-05-01 , DOI: 10.1016/j.carbon.2020.01.080 Song Tian , Lu Zhou , Zhongtian Liang , Yu Yang , Yanru Wang , Xinfa Qiang , Shilin Huang , Haojie Li , Shi Feng , Zhonghao Qian , Yangbo Zhang
摘要 碳化铪纳米线 (HfCnw) 通过催化剂辅助化学气相沉积法在 2.5 D 针刺碳毡中原位生长。随后,通过化学气相渗透将碳毡致密化以获得 HfCnw 增强的碳/碳(HfCnw-C/C)复合材料。首次研究了HfCnw对C/C复合材料电导率、电磁屏蔽性能和抗氧化性的影响。结果表明,在 8.2-12.4 GHz 的整个频率范围内,含有 1.75 wt% HfCnw 的 C/C 复合材料的 SET 超过 40 dB,这意味着超过 99.99% 的入射光束被屏蔽。此外,发现复合材料的总屏蔽效能的相对大小关系(SET(S-2h) > SET(S-3h) > SET(S-0h))与电导(σ S-2h > σ S-3h > σ S-0h),说明电导可以有效预测SET的相对幅度。此外,基于氧化曲线的分析表明,即使使用少量 HfCnw,HfCnw 也能显着提高复合材料的抗氧化性。HfCnw-C/C 复合材料的高电磁干扰 (EMI) 屏蔽效率加上相对较低的密度和良好的抗氧化性,使其成为未来 EMI 屏蔽应用的轻质高性能结构功能集成材料的显着潜力。基于氧化曲线的分析表明,即使使用少量 HfCnw,HfCnw 也能显着提高复合材料的抗氧化性。HfCnw-C/C 复合材料的高电磁干扰 (EMI) 屏蔽效率加上相对较低的密度和良好的抗氧化性,使其成为未来 EMI 屏蔽应用的轻质高性能结构功能集成材料的显着潜力。基于氧化曲线的分析表明,即使使用少量 HfCnw,HfCnw 也能显着提高复合材料的抗氧化性。HfCnw-C/C 复合材料的高电磁干扰 (EMI) 屏蔽效率加上相对较低的密度和良好的抗氧化性,使其成为未来 EMI 屏蔽应用的轻质高性能结构功能集成材料的显着潜力。
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更新日期:2020-05-01
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