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表观粗糙度作为氧化石墨烯(局部)脱氧的指标
Chemistry of Materials ( IF 7.2 ) Pub Date : 2014-08-11 00:00:00 , DOI: 10.1021/cm502147f
Duncan den Boer 1 , Jonathan G. Weis 1 , Carlos A. Zuniga 1 , Stefanie A. Sydlik 1 , Timothy M. Swager 1
Chemistry of Materials ( IF 7.2 ) Pub Date : 2014-08-11 00:00:00 , DOI: 10.1021/cm502147f
Duncan den Boer 1 , Jonathan G. Weis 1 , Carlos A. Zuniga 1 , Stefanie A. Sydlik 1 , Timothy M. Swager 1
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氧化石墨烯(GO)及其还原形式的详细表征仍然是一个挑战。我们已经采用扫描隧道显微镜(STM)通过可控的化学还原来检测具有不同脱氧度的GO样品。在STM形貌测量中对表观高度的粗糙度(即“表观粗糙度”)进行的分析显示,脱氧增加与表观粗糙度减小之间存在相关性。因此,该分析可以作为当前可用于GO和相关材料研究的技术的有用补充。STM尖端下方的高电场的存在会在GO基础平面上局部引发反应,从而导致局部脱氧和sp 2的还原。碳的杂化促进平面度的增加。这些发现与在不同化学还原水平下GO的表观粗糙度值一致,并说明了拥有一种工具可在局部规模上获得结构/化学洞察力的价值。这是使用STM针尖将GO局部还原为还原GO(rGO)和部分还原GO(prGO)而不局部破坏石墨烯样品的第一个示例。纳米尺度上的局部操作对于石墨烯纳米电子学很有用,采用表观粗糙度进行分析是研究氧化石墨烯和相关基础平面化学的另一种工具。
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更新日期:2014-08-11

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