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Ge-Sb-Te基相变材料薄膜:微观结构和原位转变
Chemistry of Materials ( IF 7.2 ) Pub Date : 2011-08-17 00:00:00 , DOI: 10.1021/cm200835a
Jan Tomforde 1 , Wolfgang Bensch 1 , Lorenz Kienle 2 , Viola Duppel 3 , Philipp Merkelbach 4 , Matthias Wuttig 4
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三元化合物GeSb 2 Te 4和Ge 2 Sb 2 Te 4是有前途的相变材料,可用于数据存储和记录领域。在本研究中,使用磁控溅射技术将材料的薄膜沉积在惰性基板上。通过X射线粉末衍射和高分辨率透射电子显微镜(HRTEM)研究了非晶态,亚稳态和稳定晶态的微观结构。在沉积状态下,材料是无定形的。加热后,它们首先结晶成具有NaCl型结构的亚稳相,然后在较高温度下转变为层状结构(稳定相)。HRTEM研究表明,在所有材料中,具有亚晶形态的纳米级颗粒均处于结晶亚稳态。在GeSb 2 Te的情况下如图4所示,当样品转变为包含结构空位层的稳定相时,这些纳米晶体不会显着生长。Ge 2 Sb 2 Te 4的行为不同。特别地,向晶体稳定相的结构转变伴随着微晶尺寸的显着增加,直至几微米。晶体由纳米级薄片构成,其中不包含空位层。Ge 2 Sb 2 Te 4的X射线数据的Rietveld精修处于亚稳态晶态的化合物表明该化合物由两相组成,其中一相富Ge,另一相贫Ge。前相中相干散射域的大小约为20 nm,而第二相的值确定为约2 nm。



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更新日期:2011-08-17
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