武汉大学先进光刻课题组

桂成群国家级特聘专家教授博士生导师武汉大学工业科学研究院先进光刻课题组

桂成群教授本硕毕业于清华大学，1986年-1993在清华大学担任助教及讲师等职务。1998年博士毕业于荷兰University Twente。1999年加入ASML（阿斯麦）历任高级系统工程师、技术市场经理、战略事业部项目经理，在光刻机研发、项目管理等方面有着资深的业界声望与经验。申请国际专利近100项次（其中授权40余项美国专利）。2010.1至今任荷兰SIMAX 总裁，从事激光直写光刻机的开发工作。2019年加入武汉大学工业科学研究院，从事微纳制造、机电一体化、柔性传感与显示器件等方向，主持国家家重点研发计划—激光高性能连接技术与装备的科研工作，并参与国家重大科研仪器研制项目薄膜生长缺陷跨时空尺度原位/实时监测与调控实验装置。在国际期刊先后发表论文30余篇。

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本课题组研究方向围绕3D光刻原理、技术、设备开发展开，研究纳米尺度光学测量、光和材料的作用机理，并将其应用于柔性器件、MEMS传感器、全息成像等领域。本课题组长期招收博士、硕士研究生，欢迎各位对光刻与微纳制造领域的感兴趣的同学加入。

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冀然博士分享《微纳光学器件生产中纳米压印产业化应用》报告

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