1.  新型二维光电器件制备和超快光谱成像表征

    新型二维光电器件制备旨在通过创新性的方法和技术，制备出具有优异光电性能的二维材料基光电器件。这些器件在光电子学、光通信、光传感、光存储等领域具有广泛的应用前景。

    超快光谱成像表征是一种先进的表征技术，用于研究材料在超快时间尺度上的光学性质和动态过程。该技术结合了超快光谱学和成像技术，能够在纳秒、皮秒甚至飞秒的时间分辨率内，对材料的光学响应进行精确测量和成像。

2.  新型二维材料界面电荷转移机理和载流子输运机制

        界面电荷转移机理研究旨在探究二维材料与其他材料（如金属、半导体、绝缘体等）在接触界面上电荷的转移和分布规律。这对于设计高效的光电器件、能量转换装置和传感器等具有重要意义。

    载流子输运机制研究旨在揭示二维材料中电子、空穴等载流子的传输规律和机制。这对于提高二维材料在电子器件中的性能至关重要。

3.  发展新型超快光谱和成像方法和技术

    新型超快光谱技术致力于开发具有更高时间分辨率和灵敏度的光谱测量方法，以研究物质在光激发下的瞬态光谱响应。这些技术能够揭示物质内部电子态、激子态以及振动模式的超快动力学过程。新型成像技术旨在开发具有更高空间分辨率、时间分辨率和成像深度的成像方法，以实现对物质内部微观结构和动态过程的精确观测。