詹秦芳，共青团员，生态学，
论文题目：
基于响应面法的铜电解抛光工艺优化。
应用领域：
表面精饰。
课题重要性：
通过使用数学建模来优化电解抛光的工艺参数，更快速高效的得到最佳工艺来提高铜表面质量。
摘要:
为了提高铜电解抛光工艺参数的优化效率，采用响应面法对电解抛光工艺参数进行优化。采用Box Behnken（BBD）实验设计，建立了以铜表面粗糙度和材料切除率为响应值的预测模型。在最佳工艺参数下，即抛光时间2 min、电流密度12.2 A/dm 2、抛光液温度27 ℃，可将铜表面粗糙度降低到0.040 μm。此外，预测值与实测值之间的标准差小于1 %。结果表明，响应面法是一种有效的铜电解抛光工艺优化方法。
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