中科院金属所成功安装了第一套小型台式无掩膜直写光刻系统MicroWriter ML3。结合新硬件配置，该系统可以实现0.4 μm的极限分辨率，同时拥有包括0.4 μm、0.6 μm、1 μm、2 μm和5 μm五种特征分辨率镜头，可以实现不同精度下的快速曝光应用。结合无掩膜版图设计，科研人员可以随时尝试修改曝光图形，并可以通过设备特有的虚拟掩膜（Visual Mask aligner）功能实现实时对准观测，极大地提高了科研工作的时效性和便捷性。

                      MicroWriter ML3设备照片                                                                0.4 微米孔径点阵曝光结果

                           工程师用户培训                                                                                 微纳器件制作过程图