薄膜生长制备:

1. 激光分子束外延（PLD）

2.脉冲激光溅射沉积系统（LMBE）

3.磁控溅射系统（Sputtering）

4.分子束外延系统（MBE）

微纳器件加工：

1.紫外光刻系统（5微米以上）

2.无掩模激光直写系统（400纳米-5微米）

3.电子束曝光系统（100纳米-1微米）

4.离子刻蚀与热蒸发沉积系统

结构/形貌/成分表征:

沈阳材料科学国家研究中心以及分析测试部公共设备平台拥有包括球差透射电子显微镜、扫描电子显微镜、高分辨XRD、大尺寸原子力显微镜AFM/PFM/MFM等。

物性表征：

PPMS、SQUID、VSM、FMR、超低温综合测试系统、高精度自旋测试系统等。

光谱分析：

XPS、XAS、Raman、MOKE等