目前课题组拥有的实验设备

1、高真空多靶磁控溅射镀膜系统（JCP-350），主要用于薄膜样品的生长制备，如半导体功能薄膜、金属薄膜的沉积等。

2、高精度化学气相沉积系统（OTF-1200X-S, OTF-1200X），主要用于低维材料体系的生长制备等，如单层二维材料的气相沉积，一维纳米线的生长等。

3、电化学工作站（辰华CHI660E），主要用于样品的电化学性能测试分析，如电极上的稳态电流的测量，循环伏安测量，交流阻抗等。

4、金相显微镜（OLYMPUS BX53），主要用于观测样品形貌，包括二维材料薄膜，一维材料体系，普通常规样品等。

5、高精度安捷伦双通道数字源表（Agilent B2902A），主要用于电学性质测量，包括场效应晶体管测量，普通伏安曲线测量等。

6、蓝电电池测试系统（CT3002AU），主要用于测试各种组装电池的电化学性能，如锂电池充放电性能、钠电池充放电性能等。

7、多路气体控制系统，主要用于各种设备单的气体供应，如化学气相沉积系统，磁控溅射系统，普通氮气吹扫等。

8、高精度探针座（台湾奕枼，EB050），用于多种微纳电子元器件的测试分析，如三端场效应晶体管，两端微纳元器件等。

9、高精度质量流量计（七星华创：D07系列），主要用于气体的精确控制，如CVD系统，磁控溅射系统，氮气吹扫系统等。

10、气氛管式烧结炉（OTF-1200X），主要用于多种样品的热处理，各种陶瓷粉体的高温烧结等。

11、高精度数字源表（Agilent 2900和Keithley 2400），主要用于各种元器件的电学精确测量，如各种三端器件IV，IVg，两端器件IV等。

12、X射线衍射仪，主要用于测试样品的晶体结构，进行物相分析，如粉末样品等。

13、超声雾化热解喷涂薄膜系统（HZZD/CQUT USP-II），主要用于多种薄膜的生长，有机、无机、氧化物薄膜等。

14、超纯水过滤系统，主要用于实验过程中的各种超纯水制备，如电导率为18.25兆欧/厘米的超纯水。

15、多用途通风柜系统，主要用于各种简单化学样品的制备，如溶液配制，衬底清洗，实验室通风等。

16、多用途通风橱系统，主要用于常规的化学样品制备，如衬底清洗、各种溶液的配制、实验室通风等。

17、多款分析天平（Sartorious BSA224S-CW），主要用于各种化学样品的精确测量。

18、测试分析实验室一角。

19、研究生日常办公室。