目前课题组拥有的实验设备
1、高真空多靶磁控溅射镀膜系统(JCP-350),主要用于薄膜样品的生长制备,如半导体功能薄膜、金属薄膜的沉积等。
2、高精度化学气相沉积系统(OTF-1200X-S, OTF-1200X),主要用于低维材料体系的生长制备等,如单层二维材料的气相沉积,一维纳米线的生长等。
3、电化学工作站(辰华CHI660E),主要用于样品的电化学性能测试分析,如电极上的稳态电流的测量,循环伏安测量,交流阻抗等。
4、金相显微镜(OLYMPUS BX53),主要用于观测样品形貌,包括二维材料薄膜,一维材料体系,普通常规样品等。
5、高精度安捷伦双通道数字源表(Agilent B2902A),主要用于电学性质测量,包括场效应晶体管测量,普通伏安曲线测量等。
6、蓝电电池测试系统(CT3002AU),主要用于测试各种组装电池的电化学性能,如锂电池充放电性能、钠电池充放电性能等。
7、多路气体控制系统,主要用于各种设备单的气体供应,如化学气相沉积系统,磁控溅射系统,普通氮气吹扫等。
8、高精度探针座(台湾奕枼,EB050),用于多种微纳电子元器件的测试分析,如三端场效应晶体管,两端微纳元器件等。
9、高精度质量流量计(七星华创:D07系列),主要用于气体的精确控制,如CVD系统,磁控溅射系统,氮气吹扫系统等。
10、气氛管式烧结炉(OTF-1200X),主要用于多种样品的热处理,各种陶瓷粉体的高温烧结等。
11、高精度数字源表(Agilent 2900和Keithley 2400),主要用于各种元器件的电学精确测量,如各种三端器件IV,IVg,两端器件IV等。
12、X射线衍射仪,主要用于测试样品的晶体结构,进行物相分析,如粉末样品等。
13、超声雾化热解喷涂薄膜系统(HZZD/CQUT USP-II),主要用于多种薄膜的生长,有机、无机、氧化物薄膜等。
14、超纯水过滤系统,主要用于实验过程中的各种超纯水制备,如电导率为18.25兆欧/厘米的超纯水。
15、多用途通风柜系统,主要用于各种简单化学样品的制备,如溶液配制,衬底清洗,实验室通风等。
16、多用途通风橱系统,主要用于常规的化学样品制备,如衬底清洗、各种溶液的配制、实验室通风等。
17、多款分析天平(Sartorious BSA224S-CW),主要用于各种化学样品的精确测量。
18、测试分析实验室一角。
19、研究生日常办公室。