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仪器设备

课题组拥有先进、完善的材料制备与宏观、微观物性表征装备,包括:

薄膜材料制备装备:电子束蒸发、脉冲激光沉积、磁控溅射、离子束沉积、分子束外延等

单晶材料制备装备:超高温光学浮区炉、化学气相沉积、双/三温区真空管式炉、箱式炉、电弧炉、手套箱x3等

微纳加工装备:聚焦离子束刻蚀(FIB)、3D纳米直写系统、多功能压焊机

物性表征装备:PPMS(0-14T,1.8-400 K)、MPMS-3、VSM、ACMS、低温AFM/MFM/PMF(1.8-300 K,0-9 T)、室温AFM/MFM、ARPES、XRD、SEM等


超高真空互联系统 Ultra high vacuum interconnection lab

NanoFrazor (3D纳米直写系统)                                                    牛津原子力显微镜 (AFM/MFM/PFM+3D magnet

                 

PPMS+MPMS3                                                                           原子力/磁力显微镜 (AFM/MFM)

(1.8-400 K, 0-14 T)-Quantum Design                                          

                        


聚焦离子束刻蚀(FIB)                                                              低温扫描探针显微镜 (1.8-300K,±9T)                           

                 


脉冲激光沉积 (PLD)- 美国NEOCERA                                            电子束蒸发-1

                   


低温电子束蒸发(基底液氮冷却)                                                     磁控溅射系统

                   


氧化物分子束外延 (OMBE)                                                        超高温光学浮区单晶炉 (T > 3000 ℃)

                 


X射线衍射仪D2 (XRD)                                                                       X射线衍射仪D8 (XRD)

                 


小型离子束溅射仪                                                                          真空封管设备

                 


手套箱                                                                                          多功能压焊机

                 


烧结炉

                  


线切割机                                                                                        压力反应釜