纳米制造与量测设备；计算光学；干涉测量；人工智能。负责浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室NGI（Next Generation Interferometry, 下一代干涉测量)课题组。 1. 纳米制造与量测设备：双光子激光直写、深紫外光刻曝光正如火如荼地发展，本课题组针对性地研发光刻镜头、极端波长光束调控器件、量测技术与设备等。 2. 计算光学：深紫外段、极紫外段光刻高NA物镜、贝塞尔光束调控的光学设计、纳米计算全息辅助装调。 3. 干涉测量：轨道角动量、自旋角动量干涉光场，实现纳米制造设备的物镜装调。 4. 人工智能：物理-数据驱动深度学习模型，服务于“纳米制造与量测设备”、“计算光学”和“干涉测量”