An ultraflat, single-crystal hexagonal boron nitride film enables the production of wafer-scale, ultrathin high-κ dielectrics for two-dimensional electronics, meeting the 2025 targets set by the International Roadmap for Devices and Systems.

中文翻译：

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超平六方氮化硼，用于高 κ 介电集成


超平、单晶六方氮化硼薄膜能够生产用于二维电子产品的晶圆级超薄高 κ 电介质，满足国际器件和系统路线图设定的 2025 年目标。