用于高分辨率和超稳定 X 射线成像的 Cs3Cu2I5：Tl 纳米晶体薄膜的原位制造,The Journal of Physical Chemistry Letters

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用于高分辨率和超稳定 X 射线成像的 Cs3Cu2I5：Tl 纳米晶体薄膜的原位制造
The Journal of Physical Chemistry Letters ( IF 4.8 ) Pub Date : 2022-03-24 , DOI: 10.1021/acs.jpclett.2c00456
Xudong Hu ₁ , Peng Yan ₁ , Peng Ran ₂ , Linpeng Lu ₁ , Jing Leng ₁ , Yang Michael Yang ₂ , Xiaoming Li ₁

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Cs ₃ Cu ₂ I ₅纳米晶体（NCs）由于其高光致发光效率和X射线硬度而被认为是有前途的材料。然而，目前的策略依赖于繁琐的制造和过多的化学废物。碘离子离解难、配体体系不适应、稳定性低、光产率相对较低等严重阻碍了它们的应用。_{在此，我们开发了一种用于柔性和大面积 Tl 掺杂 Cs 3} Cu ₂ I ₅的原位制造策略具有高光输出（~48800 光子/MeV）和提高稳定性的 NC 聚合物复合闪烁膜。Tween 80 和次膦酸成功地抑制了碘离子的氧化，薄膜可以保存至少六个月。结果，实现了 16.3 lp mm ^{–1的高空间分辨率和 305 nGy}_air s ^–1的低检测限。在 604.8 Gy 的总照射剂量后，放射发光强度保持在 >80%。这些结果表明这些卤化铜 NC 在低成本、灵活和高性能的医学成像中具有广阔的应用前景。

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更新日期：2022-03-24

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